解决方案
提供基于数据驱动的品质分析优化解决方案
1、品质异常侦测具有滞后性
品质特征值难以实时预测,无法及时有效拦截减少损失。
2、品质异常问题处理周期长
品质异常出现后,依赖工程师经验手动进行相关数据拉取整合与处理分析,耗时耗力,生产延误造成经济损失。
3、依赖人工经验
工艺参数调整依赖人工经验,导致产品品质波动大。
4、数据监测不全面
缺乏完善的数据管理体系,场景碎片化、表计分散,现场数据采集困难。
1、大数据监测 基于大数据平台整合生产过程、品质等各类数据; 2、AI数据分析 基于定型分析与非定型分析方法定位品质异常根因; 3、异常预警 构建品质预测模型对异常提前侦测预警; 4、闭环控制 提供参数调整建议,实现闭环控制。
基于机器学习技术,提供分析建模、实时预测等功能,实现端到端一站式建模服务
借助统计方法进行生产过程控制,自动化品管指标监控
提供数据汇聚,数据开发,数据资产管理,数据服务等功能
提供实时工艺调整,实现参数优化自动建议
某半导体芯片企业依赖人工手工在站点对膜厚进行抽查,同一批次、不同批次膜厚异常分析难以开展;设备端存在海量数据未被利用;CMP制程端膜厚、缺陷异常分析缺乏有效手段,产品超差率高。 威九国际通过一体化解决方案助其实现CMP&TF制程品质优化提升。 将设备和制程相关的所有参数全部导入,通过多种降维、升维等自动化特征挖掘算法,不断筛选、提取,创建用户可以修改训练用的因子集;建立CMP膜厚异常、缺陷根因分析模型;利用虚拟量测,将影响膜厚的各类复杂数据,通过复杂算法,建立模型,高精度预测膜厚值,对异常值实时拦截,实现特征值“实时全检”,降低站点抽检频率60%。方案的导入将CMP支撑的产品超差率降低70%,年均可以产生1000万左右的经济效益。
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